ООО «АДЕЛАНТЕСТ»

Продукция

Керамические подложки для производства печатных плат на основе алюмооксидной керамики

  • ВК-100-1 – вакуумплотная керамика с 99,7% содержанием AL2O3 (оксида алюминия). Производство АО «Поликор», РФ.

  • LH-TECH (Китай) керамические подложки с 99,6% содержанием AL2O3 для изготовления однослойных и многослойных плат по толсто- и тонкопленочной технологиям (одно или двусторонняя полировка).

    Стандартные размеры:
    со склада: 114.3 x 114.3 x 0.635 мм, 101.6 х 101.6 х 0.635 мм
    под заказ: 50.8 х 50.8 мм и 60 x 48 мм с толщинами 1.0, 0.5, 0.38 мм
    (Возможна поставка подложек с другими толщинами).

  • Kyocera (Япония) с 96 – 99,6% содержанием AL2O3 для изготовления печатных плат по толсто- и тонкопленочной технологиям.
  • Таблица: Характеристики керамических подложек ВК-100-1 и LH-Tech

    Наименование показателя ВК-100-1 «поликор» LH-TECH
    Содержание Al2O3
    %, не менее
    99.7
    99.6
    Прозрачность
    П/прозрачная
    П/прозрачная
    Плотность кажущаяся
    г/см3, не менее
    3.96
    ≥3.90
    Предел прочности при центрально-симметрическом изгибе
    МПа, не менее
    313.8
    ≥500
    Температурный коэффициент линейного расширения в интервале температур 20...900 °С
    К–1
    80 x 10–7
    80 x 10–7
    Относительная диэлектрическая проницаемость в диапазоне частот 8–10 ГГц при 20 °С
    9.7 ±0.25
    9.7 ±0.25
    Тангенс угла диэлектрических потерь в диапазоне частот 9–10 ГГц при 20 °С
    не более
    1 х 10–4
    1 х 10–4
    Удельное объемное электрическое сопротивление при 150 °С
    Ом x см, не менее
    2 x1014
    2 x1014
    Шероховатость полированной поверхности Rz
    мкм
    0.05
    ≤0.15
    Шероховатость шлифованной поверхности Ra
    мкм
    1.6
    ≤1.6

    Таблица:Характеристики керамических подложек Kyocera

    Основные области примененияпоказателя Толстопленочная технология ИПП Тонкопленочная технология ИПП Минимизирование дефектов поверхности при тонкопленочной технологии
    Материал
    Alumina (Al2O3)
    Alumina (Al2O3)
    Alumina (Al2O3)
    Alumina (Al2O3)
    Alumina (Al2O3)
    Код материала
    A476
    A476T
    A493
    A493H
    A476K
    Содержание оксида алюминия
    96%
    96%
    99.6%
    99.6%
    97%
    Плотность, г/см3
    3.70
    3.78
    3.86
    3.96
    3.70
    Твердость по Виккерсу, ГПа
    13.7
    13.9
    16.0
    17.7
    13.7
    Предел прочности при изгибе (3-точечный изгиб), МПа
    310
    380
    550
    550
    350
    Модуль упругости Юнга, ГПа
    330
    340
    390
    390
    330
    Коэффициент линейного теплового расширения (40...400 °C),
    х 10–6/K
    7.2
    7.0
    7.2
    7.2
    7.2
    Теплопроводность, Вт/мК
    26
    26
    26
    30
    24
    Диэлектрическая прочность, кВ/мм
    12
    15
    15
    18
    15
    Объемное удельное сопротивление, Ом x см
    >1014
    >1014
    >1014
    >1014
    >1014
    Диэлектрическая проницаемость (1 МГц)
    9.4
    9.6
    9.6
    10.2
    9.4
    Угол диэлектрических потерь (1 МГц), x 10–4
    4.0
    3.0
    3.0
    2.0
    4.0
    Толщина подложки, мм
    0.1 ~ 1.0
    0.32 ~ 2.7
    0.1 ~ 1.0
    <0.7
    0.5 ~ 1.0
    Шероховатость поверхности
    Ra0.3
    ~0.5 µm
    Ra0.3
    ~0.5 µm
    Ra0.05
    ~0.08 µm
    <Ra0.01 µm (Mirror Surface)
    Ra0.2
    ~0.3 µm
    error: Content is protected !!